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Les restrictions imposées à la Chine en matière de lithographie EUV doivent être maintenues, selon un conseiller de David Sacks
information fournie par Reuters 23/05/2025 à 18:38

((Traduction automatisée par Reuters à l'aide de l'apprentissage automatique et de l'IA générative, veuillez vous référer à l'avertissement suivant: https://bit.ly/rtrsauto))

(Ajoute des détails sur l'EUV, ASML dans les paragraphes 3-4)

La restriction de la vente d'équipements de lithographie dans l'ultraviolet extrême (EUV) à la Chine est le "contrôle des exportations le plus important" dont disposent les États-Unis dans le domaine des semi-conducteurs, a déclaré vendredi David Sacks, le tsar de l'IA et de la cryptographie de la Maison-Blanche.

"La première administration Trump a commencé la restriction, et il est d'une importance capitale qu'elle se poursuive", a écrit David Sacks sur X.

La société néerlandaise ASML ASML.AS fabrique des machines à fabriquer des puces EUV, qui produisent les semi-conducteurs les plus sophistiqués.

Les systèmes de lithographie utilisent des faisceaux de lumière pour aider à créer les circuits de la puce. La première génération de systèmes EUV d'ASML, actuellement utilisée pour fabriquer la plupart des puces des smartphones et des puces d'intelligence artificielle, utilise la lumière dans la longueur d'onde de l'"ultraviolet extrême" pour créer des caractéristiques de conception d'une résolution allant jusqu'à 13 nanomètres, soit une taille inférieure à celle d'un virus.

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